Россия и Белоруссия делают оборудование для фотошаблонов 90–65 нм

Россия и Белоруссия взялись за один из самых узких участков микроэлектроники — оборудование для выпуска фотошаблонов, без которых невозможно производство чипов. Речь идёт не об одной машине, а о целом комплексе из девяти установок, который должен закрыть почти весь цикл изготовления таких заготовок.

Что именно разрабатывают

Фотошаблоны — это высокоточные стеклянные трафареты с рисунком микросхемы, которые используются при выпуске полупроводников. Совместно с белорусским предприятием «Планар» создаётся комплекс оборудования, охватывающий основные этапы производства:

• •генерацию изображения
• •контроль качества
• •лазерную ретушь дефектов

Заявленный охват техпроцессов — 90–65 нм. Большинство установок планируют завершить в 2026 году, последнюю — в 2027-м.

Как распределены роли

Технологические компетенции в проекте находятся на стороне «Планара». Россия в этой схеме выступает заказчиком и интегратором.

Разработка идёт в рамках государственной программы с бюджетом свыше 240 млрд рублей. Её цель — к 2030 году заместить около 70% импортного оборудования.

Отдельно важно, что «Планар» уже запустил в Минске центр по производству фотошаблонов на 90 нм. В источнике он назван единственным на постсоветском пространстве, при этом площадка имеет потенциал перехода на 65 нм.

Почему этого недостаточно для «полностью отечественных» чипов

Появление собственного оборудования для фотошаблонов не означает автоматического запуска полностью отечественных 65-нм микросхем. Фотошаблоны — критически важная часть цепочки, но только одна из её частей.